2021年10月28日下午，量子院第六期“工程师技术沙龙”活动在量子院526报告厅如期举办。本期沙龙由5名高级工程师呈现了精彩的技术报告，分别围绕真空镀膜、ALD薄膜制备、多比特芯片制备、量子点光谱及光电谱测量、实验室隔振技术等方向展开讨论和经验分享。本期沙龙活动吸引了院内科研人员、博士后、工程师等80多人到场交流。

本期沙龙量子院5位高级工程师作的精彩报告分别是：梁学慧的报告《用于超导量子芯片制备的真空蒸发镀膜》；王宏章的报告《氧化铝薄膜的ALD制备与性能表征》； 吴海华的报告《实验室隔振技术简介及相关应用》；武诗瑶的报告《基于半导体量子点的荧光光谱以及光电流谱测量》； 李成垚的报告《多比特超导量子计算芯片的制备》。

本期沙龙的技术报告主题较为聚焦，就镀膜工艺进行了较为详细的展示。例如，在超导量子芯片制备工艺中，报告详细阐述了通过真空蒸镀方式获取高质量铝膜、铟膜的工艺过程和注意事项；同时介绍了通过ALD生长方式制备氧化铝薄膜等镀膜工艺技术。另外，实验室隔振技术和荧光光谱系统搭建的报告也给科研人员在实验室搭建和样品测试方面提供了更多参考数据资料。

每期技术沙龙设置评分环节，由科研人员和工程师代表组成评分小组。评分小组按照沙龙评分规则，最终评选出了本期优秀技术报告——李成垚的报告《多比特超导量子计算芯片的制备》。

本期优秀技术报告《多比特超导量子计算芯片的制备》以超导量子芯片制备工艺流程为主线，从芯片设计仿真到封装连线，系统且宏观地介绍了目前多比特超导芯片制备面临的成活率、参数控制、串扰、布线等方面的挑战，同时也介绍了相应的应对方案。报告还讲述了在芯片制备过程中，工程师们根据测试数据反馈不断改进空气桥制备、约瑟夫森结制备、倒装焊等工艺技术，不断迭代实验过程等，最后报告分享了目前多比特超导量子计算芯片的制备成果。该报告内容丰富详实，逻辑清晰连贯，工艺技术改进方案和相应的思考角度具有很好的借鉴价值，报告受到评分委员的一致好评。

（陈春融）