2025年6月26日下午，量子院第三十七期“工程师技术沙龙”活动在量子院526报告厅如期举办。本期沙龙由6名工程师呈现了精彩的技术报告，分别在Fluxonium量子比特的读取、cursor入门、InAs/GaAs量子点定位技术、电子束曝光机的介绍、铌纳米桥薄膜的性能退化与防护、Labview在微加工设备中的应用等主题方向展开讨论和经验分享。本期沙龙活动吸引了院内外众多科研人员、博士后、工程师到场交流。

本期沙龙量子院6位工程师作的精彩报告分别是：

吾尔开西·努尔波拉提的技术报告《Fluxonium量子比特的读取优化》介绍了Fluxonium量子比特，它相比于传统的可调比特，在1/2 flux的位置有很好的抗噪音的能力，它有很大的潜力能实现高准确率的门操作。因此发展对其高保真率地读取有深远的意义，量子比特测量过程中的状态转换对于依赖重复测量的错误率有很大的影响。我们通过完整的工程手段，巧妙的想到了通过对量子比特调整偏制的方法，将其在读取过程所产生的AC-stark频率平移修正，从而保证量子比特在读取过程中始终保持在选定的频率上，而不会与相邻的TLS耦合。并且在自主开发的NLab系统上，完成了其大规模批量并可扩展地化操作的程序，使其能够在未来的测量中发挥巨大的作用。  

张慧丽的技术报告《cursor快速入门》介绍了cursor软件的下载及拓展安装流程，系统阐释了AI代码编辑器Cursor的核心突破：通过自然语言指令实现复杂场景的代码智能生成。报告重点演示了三大跨领域应用——在量子计算研究中，Cursor动态生成Qiskit模拟代码，将量子算法理论转化为可执行程序；针对硬件需求，依据设备通信协议自动构建硬件驱动模块；面向科研调研分析场景，快速开发多线程爬虫框架实现预印本论文摘要采集等。这些实践印证了Cursor在科研探索、工程开发与数据分析领域的生产力革新价值。

刘丽的技术报告《InAs/GaAs量子点定位技术的前沿探索》介绍了InAs/GaAs量子点定位技术的前沿探索，从量子点产生及调控、微腔结构单光子提取的研究现状切入，解析前期量子点微腔样品制备存在的问题，进而重点阐述为解决问题而进行的光学系统升级、带mark样品制备等一系列对量子点样品的定位方案，展示集成化q-CMOS应用等技术成果。该技术在量子通信中能实现单光子源的高效耦合，为量子密钥分发网络提供核心支撑；其定位精度将助力新型光电器件的功能化设计，为量子信息技术与半导体工艺的深度融合开辟新路径。

张丽萍的技术报告《电子束曝光机的相关介绍》介绍了电子束曝光机。电子束曝光机由电子显微镜技术衍生，扫描电镜改装技术成熟后，电子束曝光机成为主流。本年度微纳加工平台安装了型号为VOYAGER Max的电子书束曝光机，其电压为50 kV，电子束的波长为0.004 nm。曝光胶为HQS时，最细线宽为25.4 nm。1000 mm场的拼接和套刻误差分别为65 nm和30 nm，500 mm场的拼接和套刻误差分别为38 nm和30 nm（曝光胶为PMMA）。用户利用Lift-off工艺加工样品后发现，目前能得到约32 nm的线宽，此时Ti(5nm)/Au(30nm)。

高宗伟的技术报告《铌纳米桥薄膜的性能退化与防护》以制造出理想的约瑟夫森结和超导量子干涉器件为目标，探讨了铌纳米桥薄膜的性能退化与防护机制。在薄膜生长方面，介绍了铌纳米桥薄膜的内应力、表界面缺陷以及大气环境下随时间的氧化，并由此总结出防止铌性能退化、保持长时间性能稳定的方法。在器件加工方面，具体介绍了铌纳米桥薄膜的尺寸效应、近邻效应以及边界损伤。通过在铌薄膜表面覆盖保护层、创新性的电子束曝光和刻蚀手段等，来尽可能地优化器件性能。

郭晓龙的技术报告《Labview在微加工设备中的应用》介绍了LabVIEW在微加工设备中的应用。LabVIEW是一种图形化编程环境，使用图标、连线构成流程图，尽可能的利用工程师所熟悉的术语，是一个面向最终用户的工具。基于团队自研的磁控溅射设备，使用LabVIEW编写程序界面，并介绍其能够实现的功能，及其在设备中的实际应用。软件开发和硬件设计的结合，实现设备的完全自研，也为团队后续设备自研积累了经验。

技术沙龙设置评分环节，由科研人员和工程师代表组成评分小组。评分小组按照沙龙评分规则，最终评选出本期优秀技术报告是张丽萍的《电子束曝光机的相关介绍》。

本期优秀技术报告数据详实具体，对微纳加工领域的研究人员和技术人员具有较高的参考意义，受到评分委员的一致好评。